国产光刻机，从卡脖子到破局

[S1]哈喽，大家好，欢迎收看咱们今天的节目。最近啊，九月份在上海那个国际工业博览会，不知道大家关注没，有个大事儿。[S2]哦，是什么呀。[S1]就是上海微电子，他们第一次公开拿出来一个东西，国产的二十八纳米浸没式光刻机。现场那个场面，真的是人山人海，掌声就没停过。[S2]哇，光刻机，这个词儿我可听得耳朵都快起茧子了，老说我们被卡脖子，就是卡在这个东西上。[S1]对。就是它。这个光刻机，外号叫芯片之母，你可以把它想成一个超级超级精密的投影仪。[S2]嗯，投影仪。[S1]是的，但它不是往墙上投个电影，而是要在指甲盖那么大点儿的硅片上，刻出几十亿个晶体管的线路。那个难度，简直了，所以才叫人类工业皇冠上的明珠。[S2]确实，几十亿个，太夸张了。[S1]是啊。所以过去几十年，这技术基本都被荷兰的ASML公司给垄断了，特别是最牛的那个EUV光刻机，一台就上亿美元，还不是谁想买就能买。[S2]对，美国那边一直搞出口管制，不卖给我们。[S1]没错。所以没有先进光刻机，就造不出高端芯片，这是我们之前最痛的地方。不过现在情况不一样了，国产光刻机追得特别快。[S2]哦，快给我们讲讲，到底到什么程度了。[S1]总的来说就是，咱们在成熟的工艺上已经有突破了，更先进的呢，在加速追赶，同时我们还在找一些新路子，想办法弯道超车。[S2]嗯，听起来很有条理。那具体说说这个突破。[S1]就说回刚才提到的上海微电子，它是国内唯一能造高端前道光刻机的公司。他们之前已经量产了九十纳米的光刻机。[S2]嗯。[S1]然后，二零二五年就迎来了这个大突破，就是那台SSA八零零杠一零i型号的二十八纳米浸没式光刻机，七月份就宣布稳定量产了。[S2]二十八纳米，这个节点很重要吗。[S1]特别重要。这意味着咱们在这个关键的节点上，基本上能自己说了算了。虽然说，单台机器的效率大概是国外先进水平的百分之八十，但是，国产化率已经超过了百分之六十，成本也更低。[S2]哦，那已经很厉害了。[S1]而且，中芯国际、华虹这些主流的芯片厂都下了订单。更牛的是，通过一个叫多重曝光的技术，这台机器还能拿来生产十四纳米，甚至是七纳米的芯片。[S2]哇，真的吗。这一下就把可能性打开了啊。[S1]是的。这背后其实是一张特别紧密的产业合作网。[S2]哦，原来不是一家公司在单打独斗。[S1]对。光刻机有几万个精密零件，光学、光源、材料什么的，哪一个都不简单。现在国内好多公司都在一块儿使劲，比如茂莱光学做高精度镜头，凯美特气提供光刻气体，福晶科技搞激光晶体，还有南大光电他们把高端的那个ArF光刻胶也给国产化了。[S2]嗯，原来是大家一起添砖加瓦，才有了这个整机。[S1]没错。而且我们还在想办法绕开传统技术。[S2]就是你刚才说的那个弯道超车。[S1]对。因为ASML在EUV那个领域专利太多了，直接学风险太高。所以有些公司和研究机构就在搞替代方案。[S2]嗯，比如呢。[S1]比如说，璞璘科技搞的纳米压印光刻设备，已经能做到十纳米以下的线宽了，性能跟国际水平差不多。还有浙江大学研发的那个羲之电子束光刻机，特别适合小批量、高精度的制造。[S2]哦，这些虽然还没大规模用上，但给未来提供了更多选择。[S1]是的。当然了，咱们也得清醒一点，在最顶尖的EUV光刻机上，差距还是挺明显的。[S2]嗯，确实，不能太飘了。[S1]对。ASML的EUV设备都用来量产三纳米芯片了，咱们的EUV样机还在试生产阶段，什么光源效率啊，稳定性啊，都还需要慢慢提升。但好消息是，咱们在一些新路径上，比如激光诱导放电等离子体，就是LDP，已经有进展了，就是为了绕开ASML的技术壁垒。[S2]明白了。这么听下来，这条路走得真是又难又坚定啊。[S1]确实是。它已经不只是一个技术问题，而是关系到国家科技安全的系统工程。现在，二十八纳米光刻机落地了，就代表我们在成熟工艺上站稳了脚跟，这不光是交付了一台设备，更是建立了一种信心。未来的路还长，但方向已经很清楚了，就是靠咱们自己，一步一步走稳了。[S2]说得太好了。那好，我们今天的节目也差不多到这里了。[S1]是的，如果大家喜欢我们今天聊的内容，别忘了给我们点个赞，在评论区跟我们聊聊你的想法，当然也别忘了关注我们，收看我们未来的节目。我们下期再见。[S2]下期再见，拜拜。视频链接